"इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन": अवतरणों में अंतर

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इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन तंत्र को उनके किरण पुंज के आकार और पुंज के विक्षेपण या मोड़ने की शैली के अनुसार वर्गीकृत किया जाता है। पुराने तंत्रों में [[रेखापुंज|<span title="raster">रेखापुंज</span>]] प्रणाली का प्रयोग होता था, पर अब [[सदिश|<span title="vector">सदिश</span>]] पद्वति को अपनाया जा रहा है।
 
===इलेक्ट्रॉन स्रोत===
===Electron sources===
निम्न विभेदन तंत्रों में [[तापायनिक|<span title="thermionic">तापायनिक</span>]] स्रोतों का प्रयोग होता है। ये स्रोत LaB<sub>6</sub> से बनाये जाते हैं।
Lower resolution systems can use thermionic sources, which are usually formed from LaB<sub>6</sub>. However, systems with higher resolution requirements need to use [[field emission]] sources, such as heated W/ZrO<sub>2</sub> for lower energy spread and enhanced brightness.
 
===Lenses===