"इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन": अवतरणों में अंतर
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निम्न विभेदन तंत्रों में [[तापायनिक|<span title="thermionic">तापायनिक</span>]] स्रोतों का प्रयोग होता है। ये स्रोत LaB<sub>6</sub> से बनाये जाते हैं। पर उच्च विभेदन के लिये [[क्षेत्र उद्गार|<span title="field emission">क्षेत्र उद्गार</span>]] स्रोत, जैसे तप्त W/ZrO<sub>2</sub>, जिसमें निम्न ऊर्जा फैलाव और अधिक [[द्युति|<span title="brightness, radiance">द्युति</span>]] होती है, का प्रयोग होता है।
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[[स्थिरविद्युत|<span title="electrostatics">स्थिरविद्युत</span>]] और [[चुम्बक|<span title="Magnet">चुम्बकीय</span>]] [[लेंस|लेंसों]], दोनो का ही प्रयोग होता है। परंतु स्थिरविद्युत लेंसों में त्रुटी अधिक होती है, इसलिये इनका प्रयोग सूक्ष्म फोकस/केंद्रकरण के लिये नही होता।
===Stage, stitching & alignment===
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